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  • 紫外掩膜曝光機(jī)

    OAI 200型光刻機(jī)和紫外掩膜曝光系統(tǒng)是一種經(jīng)濟(jì)高效的高性能工具,采用行業(yè)驗(yàn)證的模塊化組件進(jìn)行設(shè)計(jì),使OAI成為MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的ling ...

    型號: Model 200 所在地:香港特別行政區(qū)參考價: 面議更新時間:2025/5/9 17:07:32 對比
    曝光機(jī)OAI紫外掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)光刻機(jī)紫外掩膜曝光系統(tǒng)
  • 光刻曝光分析儀

    45年來,OAI始終是紫外能量測試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商,其儀器用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠,精確校準(zhǔn)控制。Model 659是一...

    型號: Model 659 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2024/2/23 13:53:48 對比
    光刻曝光曝光分析儀

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